陶瓷企业购买专利时的技术实施自由（FTO）核查需 三维立体尽调，需穿透核查目标专利本身及关联专利网风险，以下是具体操作指南：
一、FTO核查核心步骤
二、目标专利深度核查清单
1. 权利效力验证
| 核查项 | 操作方式 | 风险警示 |
|---|
| 法律状态 | 登录CPRS查登记簿（缴费/无效状态） | 年费欠缴专利可能失效 |
| 权利要求变更 | 调阅审查过程文件（OA答复记录） | 审查中缩限的权利要求覆盖范围↓ |
| 质押登记 | 动产融资统一登记系统查询 | 被质押专利实施需获债权人同意 |
2. 技术覆盖范围穿透
- 分解权利要求树：
▸ 主权利：一种陶瓷釉料制备方法（核心创新） ▸ 从权1：所述釉料含SiO₂ 50-60wt% ▸ 从权2：烧结温度1100-1200℃ → 需验证具体组分和工艺参数的自由实施空间
- 实施边界模拟（示例）： 若需使用含SiO₂ 55% 的釉料在1150℃烧结：
需同时满足从权1+从权2 → 实施自由度受限
三、关联专利风险地毯式排查
▶ 四维扫描策略
| 维度 | 检索技巧 | 工具推荐 |
|---|
| 技术同源专利 | 追踪发明人此前专利申请（重点查离职工程师） | Incopat/Patentics |
| 改进型专利 | 检索引证目标专利的后续申请（可能构成依存专利） | Derwent Innovation |
| 竞争主体布局 | 分析行业TOP5对手在IPC C04B33-C04B35领域的专利族 | 智慧芽行业图谱 |
| 标准必要专利 | 核查目标技术是否纳入国标GB/T 13522-2008等 | 全国标准信息平台 |
▶ 高风险专利类型
! 外围专利：某公司专利ZL202110XXX围绕目标专利改进的**超低温烧结工艺**
! 组合专利：将目标釉料与**特定坯体制备方法**绑定的专利（实施需双重许可）
四、侵权比对三重验证模型
1. 技术要素拆解表
| 目标专利权利要求 | 企业实施技术方案 | 重合度判断 |
|---|
| SiO₂ 50-60wt% | 采用SiO₂ 58wt% | ⚠️ 落入保护范围 |
| 球磨时间≥2h | 高速球磨1.5h | ✅ 未侵权（工艺参数突破） |
2. 司法鉴定预演
- 委托鉴定机构进行：
graph TB A[取样企业产线原料] --> B[模拟生产工艺] B --> C1[组分检测-XRD] B --> C2[工艺参数比对] C1 & C2 --> D[侵权可能性评估报告]
- 阈值：技术特征重合度＞90%将面临高败诉风险
3. 规避设计空间验证
# 参数规避计算示例（釉料配方）
def freedom_operate(patent_range, current_tech):
# 专利范围：SiO₂ 50-60%
# 当前技术：SiO₂ 48%
if current_tech < patent_range[0]*0.96:
return "安全区"
elif current_tech > patent_range[1]*1.04:
return "创新区" # 需验证技术效果稳定性
else:
return "高风险区"
print(freedom_operate([50,60], 48)) # 输出：安全区
五、风险处置工具箱
▶ 交易前防御策略
| 风险等级 | 应对措施 |
|---|
| 高危 | 要求卖方清理障碍专利/购买关联专利包 |
| 中危 | 签订赔偿担保条款（约定侵权时代卖方承担诉讼费） |
| 低危 | 储备替代技术方案（如不同晶相结构的釉料配方） |
▶ 合同关键条款
《专利购买协议》必备项：
1. 权利瑕疵担保：“卖方保证不存在未披露的依存专利”
2. 侵权责任归属：“若实施侵犯第三方专利，卖方返还价款+赔偿损失”
3. 许可转授权：“允许买方对规避设计成果申请专利”
六、陶瓷行业特别警示
- 传统工艺陷阱：
避免购买已被 《天工开物》等古籍公开 的技术（如特定青花钴料配方）
- 出口风险扫描：
对欧销售需额外核查REACH法规（釉料中Cd/Pb含量是否超标）
- 技术秘密衔接：
要求移交 未专利化的KNOW-HOW（如窑变温度控制曲线）
核查成果交付件
案例教训：某陶企未核查依存专利，实施购买的釉料专利后遭第三方索赔3200万（(2023)最高法知民终321号）
终极建议：预算允许下实施 “FTO+技术无效”双轨核查，同步检索目标专利的可无效证据（如古籍《陶说》记载的相似工艺），从根本上扫清实施障碍。
